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當前位置:首頁   >  產品中心  >  零維材料  >  量子點  >  HG羥基化(hua)石墨烯(xi)量子點(dian) Hydroxylated GQDs

羥基化石墨烯量子點 Hydroxylated GQDs

簡要描(miao)述:羥基化石墨烯量子點 Hydroxylated GQDs
制備方法:水熱法
成分:羥基化石墨烯量子點
外觀:無色溶液
發光峰:375納米
粒度:6納米
濃度:1毫克/毫升(可達到2mg/ml)
溶液:水和乙二醇的混合物
規格:100ml

  • 產(chan)品型號(hao):HG
  • 廠商(shang)性質:生產廠家
  • 更新時間:2018-07-03
  • 訪(fang)  問  量(liang):1321

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詳細介紹

羥基化石墨烯量子點 Hydroxylated GQDs
制備方法:水熱法
成分:羥基化石墨烯量子點
外觀:無色溶液
發光峰:375納米
粒度:6納米
濃度:1毫克/毫升(可達到2mg/ml)
溶液:水和乙二醇的混合物
規格:100ml

羥基化石墨烯量子點 Hydroxylated GQDs
制備方法:水熱法
成分:羥基化石墨烯量子點
外觀:無色溶液
發光峰:375納米
粒度:6納米
濃度:1毫克/毫升(可達到2mg/ml)
溶液:水和乙二醇的混合物
規格:100ml

Emission Photos (1) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots Excited by Natural Light (left) and UV Light (right)

TEM Image (2) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots 

Absorption Spectra (3) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots

 

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